濾芯清洗機的制造方法
作者:admin | 發(fā)布時間:2020-11-17
人工濾芯清洗機的制造方法有很多,這里主要介紹熱壓法和氣相沉積法。熱壓法制造濾芯清洗機和立方氮化硼的設(shè)備是六面或兩面濾芯清洗機。壓制單晶超硬材料,原料應(yīng)放在葉蠟石的空腔內(nèi)。壓制PCD單晶粉末的原料為石墨片,石墨片和催化劑鎳錳片堆疊在空腔內(nèi);壓制聚晶濾芯清洗機的原料為聚晶濾芯清洗機單晶粉末,結(jié)合劑有鎳、硅、鈷等。被添加。立方氮化硼單晶粉末的原料是六方氮化硼(HBN)粉末。壓制PCBN聚晶的原料是立方氮化硼單晶粉末,同時催化劑和粘結(jié)劑應(yīng)分開放置。
濾芯清洗機加壓過程中的壓力不同于增壓和終壓,葉蠟石腔中的壓力不同于頂錘中的壓力。溫度是腔體溫度。時間是加熱時間、保溫時間和冷卻時間的總和。對于不同的印刷機,這些參數(shù)會有所不同。文中給出的數(shù)據(jù)只是一個大概的數(shù)字。類似于制造PCD的熱壓法,還有“爆炸法”,在容器內(nèi)爆炸產(chǎn)生高溫高壓,將石墨轉(zhuǎn)化為濾芯清洗機。爆炸法的技術(shù)和產(chǎn)品質(zhì)量難以控制,因此很少正式使用。
濾芯清洗機化學(xué)氣相沉積是一種氣相沉積方法。根據(jù)這一工作原理,在非濾芯清洗機基體上沉積濾芯清洗機的方法有很多,如“熱絲CVD法”、“電子增強CVD法”、“微波PCVD法”、“射頻PCVD法”、“DC PCVD法”、“DC電弧PCVD法”、“DC等離子體噴射CVD法”、“電子回旋共振PCVD法”、“火焰燃燒法”、“準(zhǔn)火焰燃燒法”等,zuichangyong的是“熱絲CVD法”。
濾芯清洗機熱絲化學(xué)氣相沉積濾芯清洗機厚膜生長和沉積技術(shù)的原理圖,原料是乙醇、氫氣和甲烷,熱絲是鉭絲或鎢絲。熱絲加熱到2000 ~ 2500,在熱絲和基體之間施加電壓形成等離子體,使氫分子與含碳?xì)怏w分子解離,形成原子氫和能形成SP3鍵的烴基。在原子氫的作用下,該基團(tuán)在適當(dāng)?shù)臏囟认掳l(fā)生吸附在基體表面的化學(xué)過程,并脫氫形成濾芯清洗機的碳結(jié)構(gòu)。通過控制熱絲,外加電壓的溫度和電流密度,特別是氣體的組成、生長容器的壓力和基體溫度,可以有效地控制薄膜的生長速率和薄膜質(zhì)量。
濾芯清洗機在基體(基底)上形成厚膜后,有必要將膜從基體,分離,將其切割成具有一定形狀的小片,然后將小片釬焊在硬質(zhì)合金上以形成復(fù)合刀片或工具。
如果制造CVD薄膜濾芯清洗機工具,可以直接在工具上沉積濾芯清洗機膜,膜厚只有10 m左右,而厚膜的厚度可以達(dá)到0.5 ~ 0.6 mm以上。
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